半导体芯片晶圆用超纯水设备DI水机

‌一、半导体行业超纯水设备介绍

超纯水通常指的是电阻率能够达到18 MΩ*cm的水，是既将水中的导电介质几乎完全去除，又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水。

半导体行业中的超纯水，又名UP水，主要是半导体原材料生产加工、检测和半导体器件的制备用水。电子元器件对超纯水使用水质要求高。市场环境变化使得元器件尺寸缩小与精细度上升，使得超纯水水质与水量的技术指标不断提升。

起初是美国科技界为研制超纯材料(半导体原件材料、纳米精细陶瓷材料等)应用蒸馏、去离子化、反渗透技术或其它适当的超临界精细技术生产出来的水，如今已广泛应用在生物、医药、汽车等领域。

超纯水制备主要包括以下三个阶段，即初步吸附过滤阶段、反渗透净化阶段和树脂离子交换阶段。

二、半导体行业超纯水设备工艺原理

EDI出水+抛光树脂（阴阳离子吸附超纯水设备）

其中，离子交换即是将水中的正离子与离子交换树脂中的H+离子交换，水中的负离子与离子交换树脂中的OH-离子交换，从而达到纯化水的目的。具体说来主要有以下步骤：

1、原水：可用自来水或普通蒸馏水或普通去离子水作原水。

2、预处理系统：原水箱、原水泵、杀菌剂、石英砂过滤器、活性炭过滤器、换热器、阻垢剂系统。

3、双级反渗透系统：保安过滤器、高压泵RO、反渗透系统。反渗透膜可滤除95%以上的电解质和大分子化合物，包括胶体微粒和病毒等。由于绝大多数离子的去除，使离子交换柱的使用寿命大大延长。

4、EDI系统：EDI的作用就是通过除去电解质（包括弱电解质）的过程，将水的电阻率从0.05～1.0MΩ·cm提高到5～16MΩ·cm。

5、抛光树脂：无化学析出的核子级树脂，去除纯水中残余的微量带电离子及弱电解质，使水质达到18MΩ·cm以上。

6、终端超滤：能有效地去除水中的微粒、胶体、细菌、热源和有机物力。是整套系统最后的防火墙，确保产出的高纯水不受二次污染。

三、半导体行业超纯水设备项目概况

根据半导体行业的业主具体需求，结合项目整体实际情况，采用EDI+超纯水抛光树脂工艺，灵活运用离子交换技术，利用两端电极高压使水中带电离子移动，并配合离子交换树脂加速离子移动去除，达到超纯化水目的。